Существуют различные методы очистки традиционного промышленного оборудования, большинство из которых представляют собой химические реагенты и механические методы. По сравнению с традиционными методами очистки, такими как механическая очистка трением, химическая очистка от коррозии, очистка с сильным ударом жидких и твердых веществ, высокочастотная ультразвуковая очистка и т. д., лазерная очистка отличается отсутствием шлифования, бесконтактностью, низким тепловым эффектом и подходит для объектов из различных материалов и считается самым надежным и эффективным решением.
Из-за сложного состава и строения крепления на поверхности объекта механизм лазерной очистки также отличается. Наиболее часто используемые теоретические модели для объяснения этого следующие:
1. Лазер, генерируемый лазером, может достигать высокой концентрации энергии за счет фокусировки оптической системы. Сфокусированный лазерный луч может создать высокую температуру в тысячи или даже десятки тысяч градусов вблизи фокуса, заставляя насадку на поверхности объекта мгновенно испаряться или разлагаться.
2. Насадка на поверхности объекта нагревается и расширяется под действием лазера. Когда сила расширения насадки на поверхности объекта больше, чем сила адсорбции между насадкой и подложкой, насадка на поверхности объекта оторвется от поверхности объекта.
3. Импульсный лазер с более высокой частотой и мощностью используется для воздействия на поверхность объекта для генерации ультразвуковой волны на поверхности объекта. Ультразвуковая волна возвращается после удара о твердую поверхность среднего и нижнего слоев и мешает падающей акустической волне, тем самым генерируя высокоэнергетическую резонансную волну, заставляя грязь взрываться, разбиваться и отделяться от поверхности подложки. Когда коэффициент поглощения объекта и поверхности, прикрепленной к лазерному лучу, не отличаются, или когда поверхность, прикрепленная к поверхности, будет выделять токсичные вещества после нагревания, можно использовать этот метод очистки.
В настоящее время не существует единого стандарта конструкции машины для лазерной очистки, который необходимо определять в соответствии с фактическим методом очистки, типом подложки и грязи, влиянием требований к очистке и другими факторами. Тем не менее, они в основном одинаковы в некоторых основных структурах, в основном включая лазер, мобильную платформу, систему мониторинга в реальном времени, полуавтоматическую операционную систему управления и другие вспомогательные системы.
